日本傳來重磅消息！

(資料圖)

據媒體消息，近日，東京警視廳逮捕了位于茨城縣筑波市的國立研究開發法人產業技術綜合研究所（AIST）的中國籍高級主任研究員權恒道（59 歲）。產業技術綜合研究所，是日本國內研究尖端技術的最大規模研究機構。權恒道涉嫌泄露研究數據，他是該研究所領域研究小組中的中心人物。

據警視廳公安部介紹，權恒道于2018年4月13日下午4點半左右，將氟化合物合成的相關研究數據，通過電子郵件發送給了一家境外企業，涉嫌違反《反不正當競爭法》。該企業是生產化學制品的公司，在日本國內也有代理公司。

近期，日本和韓國都有動作。據韓國檢方6月12日發表聲明，一名三星電子的前高管遭到起訴，罪名是涉嫌竊取該公司的技術以在境外建立“山寨版”芯片工廠。

權恒道被抓

日本多家媒體報道稱，15日一名中國籍研究員被日本警方逮捕。逮捕的理由是“違法向境外企業偷送尖端技術”。據悉，這名研究員叫權恒道，現年59歲。

據日本警視廳公安部介紹，權自2002年起在該研究所擔任研究員。他在2018年4月13日下午4點半左右，將氟化合物合成的相關研究數據，通過電子郵件發送給了一家境外企業，涉嫌違反《反不正當競爭法》。該企業是生產化學制品的公司，在日本國內也有代理公司。

本次開發的氟化合物合成技術，是用于生成變壓器等高絕緣性氣體的先進技術，也與防止全球變暖有關。公安部認定權恒道涉嫌泄露的信息屬于商業秘密。

6月15日，警視廳公安部搜查了其住宅等相關地點，沒收了資料等。產業技術綜合研究所方面向警視廳告知情況，稱蒙受了損失。產業技術綜合研究所稱：研究所工作人員因涉嫌違反《反不正當競爭法》被捕，深感遺憾。我們將全力配合警方的調查，嚴肅處理。

對于警方的調查，權恒道否認指控，稱“我可能給公司發過郵件”，但是郵件內容不構成商業秘密。

6月16日，日本經濟產業大臣西村在內閣會議結束后的例行記者會上表示：非常遺憾，以此種形式出現逮捕者。今后將探討如何加強保護信息安全的措施。

內閣官房長官松野在當日例行記者會上，也談及此事。“我知道產綜研一直以來都在整備與信息管理有關的組織體制與規則，但從結果上來說，這次有人被逮捕了，深表遺憾。”他表示，對接觸機密信息的人采取認定制度，日本政府將組織有識之士對導入該制度進行討論。

去年，日本全國公安機關破獲侵犯商業秘密案件29起，是2013年開始統計以來的最高值。所謂商業秘密，包括獨立開發的技術信息和客戶數據等。

日本、韓國動作頻頻

環球網引述日本經濟新聞的報道稱，高端技術情報被透露到國外的事件，近年來在日本層出不窮。其列舉的兩個例子，一個是“2020年1月，在俄羅斯外交官的要求下，軟銀一員工因涉嫌攜帶與通信設備相關的機密信息而被警視廳逮捕，同年7月，東京地方法院宣判其有罪”。

另一個是“2021年，積水化學工業一員工因向境外企業泄露智能手機使用的技術機密信息，而遭到起訴，之后被判有罪”。

日本法律將企業或組織中的核心技術上或經營上的重要信息，定義為“營業秘密”，禁止非法取得。一旦違反，將被判處10年以下有期徒刑或2000萬日元以下的罰款。

韓國也有動作。據韓國檢方6月12日發表聲明，一名三星電子的前高管遭到起訴，罪名是涉嫌竊取該公司的技術以在境外建立“山寨版”芯片工廠。韓國水原地方檢察院表示，這位三星電子前高管涉嫌違反《產業技術保護法》和《不正當競爭防止法》。

他被指控于2018年至2019年期間，“以不當手法獲取并使用三星電子半導體工廠基本工程數據、工藝流程圖、設計圖等信息”。涉案技術為用于制造30納米以下動態隨機存取存儲器（DRAM）和閃存芯片（NAND）的制程工藝，屬于國家關鍵技術。

此前，美國FBI的“中國行動”計劃就起訴了不少華裔美國學者、科學家，指控他們向中國轉移高科技機密，但大部分最后都被證明是小題大做或者子虛烏有。美、日、韓的這些動作亦可視為半導體領域“圍堵中國”的部分行動，意在制造緊張氣氛，敲打各大與中國合作的企業。

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